PlasmaPro 80 Cobra65 ICP

  • Компактная малогабаритная установка травления индуктивно-связанной плазмой с открытой системой загрузки для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение – травления индуктивно-связанной плазмой соединений А3В5 (GaAs, GaN), диэлектириков (SiO2), кремния (Si)
  • Подложки: до ø 200 мм
  • Управление температурой  подложки вплоть до 400°C (жидкостное охлаждение и/или электрический нагрев)
  • Опционно для криопроцессов травления Si при температуре до – 150°C обратной стороны подложки поставляется система гелиевого охлаждения
  • Ручная загрузка-выгрузка подложек
  • ICP-источник плазмы модели Cobra, диаметр 65 мм, 13,5 МГц
  • Возможность подключения до 12 газовых линий
  • Контроль травления с помощью лазерной интрферометрии или рефлектометрии, оптической эмиссионной спектрометрии
  • Габариты: 1256 x 762 x 1527 мм

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.