PlasmaPro 1000 Astrea

  • Высокопроизводительная установка для плазмохимического травления при серийном производстве светодиодов
  • Назначение – плазмохимическое травления соединений GaN, AlGaInP, сапфира (Al2O3)
  • Позволяет применять в процессах агрессивные химические вещества
  • Варианты исполнения: одиночная установка; кластере, объединяющий до 3-х установок
  • Подложки: пластины ø50мм – 55 шт; ø100мм – 14 шт; ø150мм – 7 шт; ø200мм – 3 шт; ø300мм – 1 шт; ø450мм – 1шт
  • Электрод  ø490 мм оснащен вертикальным приводом для изменения межэлектродного расстояния
  • Загрузка-выгрузка подложек  — через вакуумный загрузочный шлюз либо через загрузчик кластера
  • Возможность подключения до 12 газовых линий,  два места подачи рабочего газа в камеру
  • Увеличенное время работы между очистками реактора
  • Габариты: одиночная установка — 2680 x 1192 x 2058 мм

к списку