PlasmaPro 100 RIE

  • Установка реактивно-ионного травления для НИОКР, мелкосерийного и серийного производства
  • Назначение – сухое анизотропное травление для широкого спектра процессов
  • Варианты исполнения: обособленные модули со шлюзовой камерой или в кластерной конфигурации с гексагональной или квадратной трансферной камерой
  • Реакционная камера содержит параллельные пластины с подаваемым на них ВЧ (13,56 МГц) напряжением
  • Подложки: пластины до ø200 мм
  • Электрод-подложкодержатель обеспечивает регулировку температуры обратной стороны подложки от -150ºC до 400°C (система гелиевого охлаждения)
  • Ручная загрузка-выгрузка подложек через загрузочный шлюз, опционно – кассетная загрузка-выгрузка
  • Подача рабочего газа в реактор через газовый распылитель
  • Линий подачи газа с РРГ: до 8 (12)
  • Встроенная плазменная очистка камеры
  • Возможность нагрева и охлаждения электродов
  • Возбуждение плазмы: твердотельные RF-генераторы
  • Высокоэффективная вакуумная система с форвакуумным и турбомолекулярным насосами
  • Подача азота, гелия, процессных газов
  • Сухой очищенный сжатый воздух: 4 ÷ 6 бар, расход суммарный до 10 л/мин
  • Электроэнергия: 380В, 3ф, 32А, 50/60Гц
  • Габариты: трехблочная установка – 1630 x 747 x 1194 мм; газовый шкаф на 12 газов – 650 x 220 x 1312 мм
  • Вес: трехблочная установка – 360 кг; газовый шкаф на 12 газов – 65 кг

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.