PlasmaPro 100 Polaris

  • Установка травления одиночных пластин индуктивно-связанной плазмой высокой плотности
  • Назначение – травления индуктивно-связанной плазмой соединений GaN, SiС, сапфира, GaN на сапфире
  • Позволяет применять в процессах агрессивные химические вещества (например, BCl3)
  • Установка  может работать самостоятельно, либо в составе кластера с использованием других установок PlasmaPro
  • Подложки: до ø200 мм
  • Эффективное охлаждение электрода-подложкодержателя обеспечивает контроль температуры обратной стороны подложки во время процесса травления
  • Эксклюзивный электростатический прижим образца для работы с подложками из сапфира и кремния
  • Габариты: установка – 2923 x 740 x 1694 мм

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.