PlasmaPro 100 PECVD

  • Установка для плазмоактивированного химического осаждения из газовой фазы диэлектрических и полупроводниковых слоев
  • Назначение: осаждение слоев диэлектириков (SiO2, Si3N4, SiOxNy), аморфного кремния (а-Si) и карбида кремния (SiС) при температуре электрода  400°C; осаждение кремниевых нанопроводов и высокотемпературных пленок при температуре электрода  700°C
  • Варианты исполнения: обособленные модули со шлюзовой камерой или в кластерной конфигурации с гексагональной или квадратной трансферной камерой
  • Подложки: от ø 50 мм до ø 200 мм
  • Верхний электрод улучшенной конструкции с распылителем газа
  • Генераторы: RF – 13,56 МГц, 300 Вт; LF – (50÷460) кГц, 500 Вт
  • Электрически заземленный нижний электрод (подложкодержатель) ø 240 мм с температурой 400°C (опция – 700°C) и контролем поддержания температуры
  • Модуль исходных жидких реагентов (TEOS, TMA, TMB, TMP и т.д.) с возможностью доставки до 3-х прекурсоров в газообразном виде, полученных либо термическим испарением, либо барбатированием аргоном
  • Ручная загрузка-выгрузка подложек через вакуумный загрузочный шлюз
  • Возможность подключения до 12 (4, 8, 12) газовых линий (например: SiH4, N2O, NH3, CF4, PH3, B2H6, GeH4, N2 и т.д.)
  • Встроенная система плазменная очистка камеры с функцией детектирования окончания процесса очистки
  • Высокоэффективная вакуумная система с двухроторным вакуумным насосом
  • Чиллеры, система охлаждения нижнего электрода
  • Подача азота, гелия; сухого очищенного сжатого воздуха: 4 ÷ 6 бар, расход суммарный до 10 л/мин
  • Электроэнергия: 380В, 3ф, 32А, 50/60Гц
  • Габариты: трехблочная установка – 1630 x 747 x 1412 мм; газовый шкаф на 12 газов – 650 x 220 x 1312 мм; блоки TEOS – 600 x 200 x 600 мм и 460 x 526 x 490 мм
  • Вес: трехблочная установка – 360 кг; газовый шкаф на 12 газов – 65 кг; блоки TEOS – 35 кг и 30 кг

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.