PlasmaPro 100 Cobra

  • Установка травления индуктивно-связанной плазмой высокой плотности при пониженном давлении для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение – травления индуктивно-связанной плазмой соединений А3В5 (InP, InSb, InGaAsP, GaAs, AlGaAs, GaN, AlGaN и т.д.), металлов (Nb, W), крио-травление Si, Bosch-процессы глубокого травления Si и SOI для MEMS-структур, микропневматики и фотоники
  • Процессные модули могут работать самостоятельно ( с использованием загрузочного шлюза), либо в составе кластера (с использованием шестиугольного или квадратного модуля перемещения)
  • Подложки: до ø200 мм
  • Электрод-подложкодержатель обеспечивает регулировку температуры обратной стороны подложки от -150ºC до 400°C (система гелиевого охлаждения)
  • Загрузка-выгрузка подложек через загрузочный шлюз
  • ICP-источник плазмы модели Cobra – диаметры 65 мм, 180 мм, 300 мм
  • Твердотельный RF-генератор 13,5 МГц с электродом-подложкодержателем
  • Линий подачи газа с РРГ: до 8 (12)
  • Регулируемый по высоте электрод позволяет использовать пространственные характеристики плазмы и размещать подложки до 10 мм толщиной на оптимальной высоте
  • Опционно контроль травления с помощью лазерной интрферометрии, оптической эмиссионной спектрометрии
  • Встроенная система очистки реактора
  • Высокоэффективные вакуумные системы
  • Габариты: установка – 1630 x 776 x 1640 мм, газовый шкаф – 650 x 220 x 1412 мм, вакуумные насосы – до 830 x 390 x 875 мм, чиллеры – до 460 x 550 x 890 мм
  • Вес: установка – 625 кг, газовый шкаф – 65 кг, вакуумные насосы – до 378 кг, чиллеры – до 90 кг

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.