PCE-22

  • Настольная установка ультрафиолетовой озоновой очистки с системой нагрева подложке для очистки всех типов кристаллических подложек
  • Назначение: процессы очистки подложек (Si, GaAs, оксид индия и олова, кварцевое стекло и все оксиды кристаллических подложек , в т.ч. сапфир ), удаления и вскрытия фоторезиста, улучшения гидрофильности поверхностей, очистки образцов для сканирующей и просвечивающей электронной микроскопии, УФ-активации и полимеризация полимеров; очистка поверхности золота и платины; очистка при производстве светодиодных дисплеев; окисление поверхности металлических материалов
  • Бескислотная, сухая, неразрушающая атомная очистка и удаление органических загрязнений за счет УФ-излучения с длиной волн 185 нм и 254 нм
  • Размеры зоны с УФ ртутными лампами: 200 x 200 мм
  • Диапазон задатчика времени обработки: от 0,01 с до 99,9 ч
  • В процессной камере предусмотрен 3” отвод озона к системе вентиляции с гибким рукавом длиной 3 м
  • Ручная загрузка-выгрузка подложек на выдвижную панель  
  • Процессная камера из нержавеющей стали
  • Размеры подложкодержателя: 310 x 320 мм ( ~12″ x 12″ )
  • Нагрев подложкодержателя до 150ºC с точным поддержанием температуры контроллером
  • Расстояние между лампами и подложкодержателем: от 20 до 40 мм
  • Электропитание: 220В, 50/60Гц, 350Вт
  • Габариты: 510 x 350 x 400 мм
  • Вес: 28,12 кг

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.