OTF-1200X-PEC4LV

  • Установка плазмоактивированного химического осаждения из газовой фазы SiOx, SiNx, SiOxNy, a-Si:H и прочих материалов
  • Процессная камера из сверхчистой кварцевой трубы размерами ø 2″ х 48″ (опционно – 3.14″ x 48”) и фланцами из нержавеющей стали
  • Нагреватель (208÷240В, 1ф, 4000Вт) обеспечивает максимальную рабочую температуру 1200°C – на время не более 60 мин, 1100°C – для более длительного нагрева (опционно – двухзонный нагреватель)
  • 30-ти позиционный цифровой температурный контроллер обеспечивает точность поддержания температуры ± 1°C в термостабилизированном участке 150 мм, общая длина зоны нагрева составляет 440 мм
  • Ручная загрузка-выгрузка подложек
  • Возможность управления стехиометрией изменением параметров процесса, пониженная температура процесса
  • Источник плазмы: RF-генератор 13,5 МГц, 5÷300Вт; воздушное охлаждение; 208÷240В, 50/60Гц
  • Установка укомплектована цифровым антикоррозионным прецизионным вакуумметром и специальными фланцами с присоединенными к ним игольчатыми клапанами для продувки и присоединения вакуумного насоса, соединением для подключения газа или смеси газов
  • Четырехканальный блок смешивания газов (600 x 745 x 700 мм; 220В, 50, 1ф) с компьютерным управлением и 6-ти цветным сенсорным монитором цифровыми регуляторами расхода газов на каждом канале
  • Высокопроизводительный двухступенчатый пластинчато-роторный вакуумный масляный насос производительностью 240 л/мин (220В, 50/60Гц, 1ф, 500Вт) обеспечивает предельный уровень до 1 х 10-2 торр; опционно – безмасляный насос
  • Широкий набор дополнительных опций
  • Габариты: установка – 550 x 380 x 520 мм; 2 нижних модуля (совместно) – 1200 x 1200 x 1200 мм
  • Вес суммарный: брутто – 500 кг

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.