OTF-1200X-II-50-PEMSL

  • Двухзонная установка плазмоактивированного химического осаждения из газовой фазы
  • Процессная камера из сверхчистой кварцевой трубы размерами ø 50мм х 2200мм (опционно – ø 80мм х 2200мм) и фланцами из нержавеющей стали
  • Система нагрева (208÷240В, 1ф, 4000Вт) обеспечивает максимальную рабочую температуру 1100°C для длительного нагрева
  • Два 30-ти позиционных прецизионных цифровых температурных контроллера
  • Две отдельно управляемые зоны нагрева длиной по 200 мм каждая, 250 мм срединная зона, перепад температур между зонами нагрева до 500°C
  • Обеспечение высоких скоростей нагрева и охлаждения
  • Ручная загрузка-выгрузка подложек
  • Предподогрев паров перед подачей в зону плазмы; возможность испарения нагревателем твердых тел и смешивания паров с подающимся газом; температура предподогрева – до 1100°C
  • Скорость перемещения нагревателя вдоль процессной камеры – 0÷70 мм/с
  • Источник плазмы: RF-генератор 13,5 МГц, 5÷300Вт; воздушное охлаждение; 208÷240В, 50/60Гц
  • Установка укомплектована цифровым антикоррозионным прецизионным вакуумметром и специальными фланцами с присоединенными к ним игольчатыми клапанами для продувки и присоединения вакуумного насоса
  • Высокоскоростной безмасляный сухой насос производительностью 226 л/мин (220В, 50/60Гц, 1ф, до 550Вт) обеспечивает в процессной камере предельный уровень до 1 х 10-3 торр
  • Широкий набор дополнительных опций
  • Габариты: установка – 550 x 380 x 520 мм; длина системы перемещения – 1750 мм; 2 нижних модуля (совместно) – 1200 x 1200 x 1200 мм
  • Вес: нетто – 100 кг; отгрузочный – 545 кг

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.