OTF-1200X-50S-PE-SL

  • Компактная установка плазмоактивированного химического осаждения из газовой фазы SiOx, SiNx, SiOxNy, a-Si:H и прочих материалов с автоматически перемещающимся нагревателем рабочей зоны
  • Процессная камера из сверхчистой кварцевой трубы размерами ø 2″ х 39,4″ и фланцами из нержавеющей стали
  • Нагреватель размещен на подвижных полозьях для возможности быстрого изменения температуры на образцах
  • Максимальная рабочая температура 1200°C – на время не более 60 мин, 1100°C – для более длительного нагрева
  • 30-ти позиционный цифровой температурный контроллер обеспечивает точность поддержания температуры ± 1°C в участке рабочей зоны 60 мм при температуре 1000°C, вся зона нагрева – 200 мм
  • Ручная загрузка-выгрузка подложек
  • Источник плазмы: RF-генератор 13,5 МГц, 5÷300Вт
  • Установка укомплектована цифровым вакуумметром и специальными фланцами с присоединенными к ним игольчатыми клапанами для продувки и присоединения вакуумного насоса, соединением ¼” для подключения газа или смеси газов
  • Двухступенчатый пластинчато-роторный вакуумный насос производительностью 220 л/мин (208÷240В, 3,5А, 50/60Гц, 1ф, 700Вт) обеспечивает предельный уровень до 3 х 10-3 торр. Снабжен масляным фильтром.
  • Опционно: кислородный датчик для контроля уровня кислорода в процессных газах; трехканальный блок смешивания газов; системы испарения жидкостей; трехканальная система регулирования потоков газов; модуль управления температурой
  • Электропитание: 208÷240В, 50/60Гц, 1ф, 1200Вт
  • Габариты: 1500 x 600 x 1200 мм
  • Вес: нетто- 159 кг

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.