ORBIS™ 1000

  • Установка для автоматизированного травления в среде XeF2 и HF оксидов и кремния при изготовлении МЭМС для мелкосерийного производства
  • Применяется для изготовления датчиков, ВЧ МЭМС, микроболометров, температурных датчиков, микроакселерометров, ВЧ-переключателей
  • Применение XeF2 эффективно для травления различных материалов, включая SiO2 и Si3N4, HF наиболее эффективен при травлении Si3N4
  • Пластины размером 100, 125, 150, 200 мм, а также различные типы других подложек и образцов
  • Загрузка через вакуумный загрузочный шлюз по одной пластине
  • Управление компьютером, удобство подключения к энергоносителям
  • Высокая однородность (<5% 1σ)
  • Высокая воспроизводимость (<5% 1σ)
  • Малая площадь размещения

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.