Lam Research LAM VECTOR Express / Extreme  (PECVD)

  • Автоматическая установка плазмоактивированного химического осаждения из газовой фазы и плазмоактивированного атомно-слоевого осаждения с  шлюзовой загрузкой для серийного производства
  • Назначение: осаждение оксидов, нитридов, карбидов, не отражающих свет слоев, пассивирующих слоев, диффузионных барьеров, многоуровневых стековых пленок, разделительных пленок при производстве транзисторов, схем памяти, изготовлении межсоединений и пр.
  • До 4-х процессных камер (Express); до12-х процессных камер (Extreme)
  • Загрузка в FOUP-контейнерах
  • Две или три кассетные загрузочные станции
  • Роботизированное устройство загрузки, ориентации и перемещения пластин
  • Пластины: ø300мм
  • Источники плазмы: ВЧ-генератор – (0÷3000)Вт, 13,56 MГц; НЧ-генератор – (100÷2750)Вт, 400 кГц; для плазменной очистки – 400 кГц; системы автоматического согласования
  • Газовая система: газовые линии с РРГ, нагреваемый распылитель газов
  • Применяемые газы: SiH4, CO2, NH3, NF3, N2О, C2H2, Ar, O2, He, N2 и прочие (HF – для плазменной очистки)  ;расход процессных газов – (1,5÷35) л/ч
  • Применяемые химикаты: TEOS
  • Система управления: компьютерная; система управления температурой; система определения окончания процесса
  • Чиллеры, нагреватель, озонатор
  • Высокопроизводительная вакуумная система: турбомолекулярные насосы, безмасляные форвакуумные насосы
  • Очищенный сухой сжатый воздух
  • Электроэнергия: 208В, 250А, 3ф, 50/60Гц

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.