KLOE Dilase 750 LDI

  • Система лазерной литографии высокого разрешения с технологией «прямого письма»
  • Предназначена для быстрого прототипирования и безмаскового производства, может включать до 4 УФ лазерных источников с различными длинами волн и до 3 разных размеров лазерного пятна. Размер обрабатываемых подложек до 400х400 мм и пластины диаметром до 300 мм.
  • Линейная скорость письма   >35 мм/с
  • Разрешение перемещения рабочего столика               100 нм
  • Решетка от 40нм до 100нм
  • Повторяемость         100 нм
  • Область записи         5 до 300мм
  • Толщина подложки  250 мкм до 10 мм
  • Размер лазерного луча от 0,5 мкм до 50 мкм
  • Форм-фактор: минимум 10
  • Точность стандартного послойного совмещения 500 нм
  • 3 режима письма: векторный, сканирующий и их комбинация
  • Доступные лазерные источники: 325, 375 и/или 405 нм
  • Габаритные размеры: 1801х1204х1790 мм

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.