KLOE Dilase 250 LDI

  • Система лазерной литографии высокого разрешения с технологией «прямого письма»
  • Предназначена для быстрого прототипирования и безмаскового производства. Может работать как в векторном, так и сканирующем режимах записи, и гарантирует устойчивость траектории в пределах диапазона отклонения max 100 нм.
  • Линейная скорость письма   >100 мм/с
  • Разрешение перемещения рабочего столика               100 нм
  • Повторяемость         100 нм
  • Область записи         1 до 4 дюймов
  • Толщина подложки  150 мкм до 2 мм
  • Размер лазерного луча          2 мкм до 50 мкм
  • Форм-фактор: минимум 10
  • Точность стандартного послойного совмещения         1 мкм
  • 2 режима письма: векторный и сканирующий
  • Доступные лазерные источники: 375 и 405 нм
  • Габаритные размеры: 550х670×700 мм

к списку