Heidelberg VPG+ 200

  • Высокопроизводительная установка безмасковой лазерной литографии
  • Импульсный УФ-диодный лазер 355 нм, до 10 мВт
  • Сменные пишущие линзы по выбору с минимальным размером элемента 0,75 мкм; 1 мкм; 2 мкм; 4 мкм
  • Максимальный размер подложки до 225 х 225 мм2
  • Толщина подложек до 6 мм
  • Максимальная область экспонирования 200 х 200 мм2
  • Минимальный размер структурного элемента 0,75 мкм
  • Минимальный размер адресной сетки от 12,5 нм
  • Режимы многократного нанесения рисунка
  • Равномерность линии от 65 до 300 нм
  • Точность совмещения от 250 до 500 нм
  • Автоматическая система загрузки
  • Скорость экспонирования от 970 до 13500 мм2/мин
  • Поддержка форматов DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL
  • Встроенная прецизионная система поддержания микроклимата. Рекомендуемые параметры микроклимата для помещения 21 ± 1 ОС, класс чистоты ИСО 5.

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.