Heidelberg DWL 8000

  • Установка двумерной и трехмерной экспозиции с большой зоной 
  • Максимальный размер подложки до 800 х 800 мм2
  • Минимальный размер структурного элемента 0,7 мкм
  • Размер адресной сетки уменьшен до 20 нм
  • Режимы многократного нанесения рисунка
  • Режим современной трехмерной экспозиции
  • Скорость обработки от 340 до 1650 мм2/мин

к списку