Heidelberg DWL 66FS

  • Установка лазерной литографии для НИОКР
  • Гелий-кадмиевый лазер на парах металлов 442 нм, 100 мВт или диодный лазер 405 – 410 нм, 300 мВт 
  • Максимальный размер подложки до 225 х 225 мм2
  • Толщина подложек до 6 мм
  • Максимальная область экспонирования 200 х 200 мм2
  • Минимальный размер структурного элемента 0,6 мкм
  • Размер адресной сетки уменьшен до 50 нм
  • Режимы многократного нанесения рисунка
  • Векторный и растровый режимы экспозиции
  • Режим трехмерной экспозиции
  • Скорость экспонирования от 3 до 416 мм2/мин
  • Поддержка форматов DXF, GDS, Gerber, CIF
  • Электричество 220-240 В, 50 Гц, 16А
  • Встроенная прецизионная система поддержания микроклимата ±0,1 ОС, класс чистоты в рабочей зоне установки ИСО 4. Рекомендуемые параметры микроклимата для помещения 21 ± 1 ОС, класс чистоты ИСО 5.
  • Размер установки (ШхГхВ) 1740 х 1220 х 2200 мм, масса 1000 кг
  • Размер блока управления (ШхГхВ) 560 х 600 х 1250 мм, масса 60 кг

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.