Heidelberg µPG 101

  • Настольный лазерный генератор изображения для НИОКР
  • Диодный лазер 405 нм, 120 мВт или УФ-диодный лазер 375 нм, 70 мВт
  • Для тонких и стандартных резистов или для УФ-резистов
  • Сменные пишущие линзы по выбору с минимальным размером элемента 0,6 мкм; 1 мкм; 2,5 мкм; 5 мкм
  • Максимальный размер подложки до 150 х 150 мм2
  • Толщина подложек до 6 мм
  • Максимальная область экспонирования 125 х 125 мм2
  • Минимальный размер структурного элемента 0,6 мкм
  • Размер адресной сетки уменьшен до 20 нм
  • Векторный и растровый режимы экспозиции
  • Режим трехмерной экспозиции
  • Скорость экспонирования от 1 до 90 мм2/мин
  • Погрешность позиционирования подложки 20 нм
  • Наличие системы прецизионного позиционирования подложки
  • Наличие системы автофокусировки
  • Поддержка форматов DXF, CIF, GDSII
  • Электричество 220-240 В, 50 Гц, 16А
  • Размер установки (ШхГхВ) 610 х 740 х 500 мм, масса 100 кг

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.