FHR.Micro.160-IBE-RIE

  • Лабораторная установка ионно-лучевого и реактивно-ионного травления
  • Назначение: травление меди (Cu), кремния ( Si), галлия (Ga) и прочих материалов
  • Возможность вращения и наклона подложкодержателя с подложками диаметром 4”
  • Ручная загрузка-выгрузка подложек
  • Ручное управление
  • Процессная камера из нержавеющей стали
  • Источники  ионно-лучевого и реактивно-ионного травления
  • Электрод для травления диаметром 250 мм
  • Процессные газы: аргон (Ar), азот (N2), кислород (O2), фтор (F2) и прочие
  • Опционно: загрузочный шлюз с автоматической транспортировкой подложек

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.