FHR.Micro.100-RIE

  • Лабораторная установка реактивно-ионного травления
  • Назначение: травление подложек / слоев Si, a-Si, SiNx, SiOx, фоторезиста и прочих для предочистки и формирования изображения
  • Подложкодержатель с фиксаторами для подложек диаметром до 100 мм
  • Ручная загрузка-выгрузка подложек
  • Ручное управление
  • Процессная камера из алюминия
  • RF-источник напыления 13,56 МГц для проведения процессов реактивно-ионного травления
  • RF-электрод диаметром 100 мм
  • Процессные газы: аргон (Ar), кислород (O2), трифторметан (CHF3), тетрафторметан (CF4) и прочие

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.