FHRALD 300

  • НИОКР двухреакторная установка атомно-слоевого осаждения
  • Применяется для осаждения тонкопленочных оксидов (HfO₂, Al₂O₃, La₂O₃, SiO₂ и прочих), нитридов (TiN, TaN, SiNx и прочих), металлов (W, Ta, Cu, Ru и прочих)
  • Подложки Ø150, 200, 300 мм
  • Ручная загрузка по одной пластине, чистая комната внутри установки
  • Алюминиевая нагреваемая до 80°C камера перемещения с четырьмя портами
  • Загрузочный шлюз с азотным охлаждением и одним карманом
  • Процессный реактор №1: реактор из алюминия, нагреваемый до 200°C, с обдувом аргоном зазоров; узел распыления газов с двумя газовыми каналами; расположенный по центру узел подвода газа; нагрев подложки до 600°C; отверстие для проведения эллипсометрии; 4 газовые линии исходных реагентов (нагреваемые до 200/ 230°C); 4 барботера (1 – охлаждаемый, 3 – нагреваемые); газовые линии: 7 – основные, 2 – резервные
  • Процессный реактор №2:  корпус реактора из алюминия, нагреваемый до 150°C, внутренняя камера из титана, нагреваемая до 200°C; пересекающиеся газовые потоки, два газовых канала; ламповый нагреватель Ø100 мм обеспечивает нагрев до 1000°C; нагрев подложки до 500°C; 4 газовые линии исходных реагентов (нагреваемые до 200/ 230°C), 2 резервных канала; 4 барботера (2 – охлаждаемые, 2 – нагреваемые); газовые линии: 2 – основные, 2 – резервные
Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.