FHR ALD 300

  • Промышленная двухреакторная установка атомно-слоевого осаждения
  • Применяется для осаждения тонкопленочных оксидов (HfO₂, Al₂O₃, La₂O₃, SiO₂ и прочих), нитридов (TiN, TaN, SiNx и прочих), металлов (W, Ta, Cu, Ru и прочих)
  • Подложки Ø300 мм
  • Фабричная загрузка с 2 портами для стандартных кассет на 25 пластин
  • Одна алюминиевая нагреваемая до 80°C камера перемещения с четырьмя портами
  • Загрузочный шлюз с азотным охлаждением и двумя карманами
  • Процессный реактор №1: реактор из алюминия, нагреваемый до 200°C, с обдувом аргоном зазоров; узел распыления газов с двумя газовыми каналами; нагрев подложки до 600°C (при поперечных потоках – до 400°C ); 4 газовые линии исходных реагентов (нагреваемые до 200/ 230°C), 1 резервный канал; 4 барботера (1 – охлаждаемый, 3 – нагреваемые); газовые линии: 5 – основные, 4 – резервные;  жидкостная промывка
  • Процессный реактор №2:  реактор из алюминия, нагреваемый до 200°C; узел распыления газов с двумя газовыми каналами; пересекающиеся (поперечные) газовые потоки, два газовых канала; отдаленный источник плазмы; нагрев подложки до 600°C (при поперечных потоках – до 400°C ); 5 газовых линий исходных реагентов (нагреваемые до 200/ 230°C); 5 барботеров (1 – охлаждаемый, 4 – нагреваемые); газовые линии: 7 – основные, 4 – резервные

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.