Evatec (Oerlikon Systems) CLUSTERLINE RAD

  • Кластерная установка для автоматизированных групповых процессов  напыления, дегазации/травления при производстве светодиодов, МЭМС, изделий радиосвязи и фотоэлектроники
  • Назначение – изготовление высокочастотных приборов на соединениях А3В5 (биполярных транзисторов с гетеропереходом на GaAs, сверхскоростных транзисторов на  GaN, ВЧ-фильтров и т.д.), оптических МЭМС, датчиков, переключателей, миниатюрных и сверхярких светодиодов, ИК-приборов, фотоэлектрических модулей, лазеров и т.д.
  • Кластер содержит до 4 напылительных модулей и 1 модуль дегазации/травления 
  • Подложки ø2″, ø4″, ø5″, ø6″, ø8″
  • Прямая загруска пластин или подложек осуществляется через сдвоенный загрузочный шлюз на лицевой стороне установки и обеспечивает быструю перестройку системы под разные размеры подложек
  • Система переворота для двустороннего нанесения покрытия на пластины без нарушений параметров вакуума
  • Возможности мягкого травления, нагрева и охлаждения обеспечивают высокое качество получаемых слоев и защиту подложек
  • Управление восходящими или нисходящими потоками процессного газа
  • Применение технологии вращающейся мишени для высоких скорости нанесения и однородности оптических интерфереционных покрытий
  • Мониторинг плазменной эмиссии (PEM) для корректировки стехиометрии в процессе осаждения оксидов
  • Температура нагрева подложки — до 350°C
  • Рабочее давление — <5·е-7 мбар
  • Площадь размещения: кластера — 3200 x 3800 мм, кластера и стойки управления — 4200 x 3800 мм

к списку