EQ-PCE-3

  • Компактная установка плазменной предочистки кристаллических подложек и удаления наноразмерных органических загрязнений
  • Назначение: проведение процессов очистки и удаления наноразмерных органических загрязнений на пластинах до 2” с использованием различных газов
  • Скорость удаления органических загрязнений – около 10 нм/мин при высоком уровне мощности RF-источника
  • Источник плазмы: RF-источник, 13,56 МГц, режимы 7 / 11 / 18 Вт
  • Ручная загрузка-выгрузка подложек, опционно – кварцевая кассета-лодочка для пластин
  • Цифровой мановакууметр
  • Кварцевая процессная камера объемом 0,7 литра и размерами: ø3” х 7”, с дверкой на петлях для облегчения загрузки
  • Используемые газы: аргон (Ar), азот (N2), воздух, газовые смеси (в .ч. с содержанием <5% водорода (H2)) в зависимости от вида обрабатываемого материала
  • Высокоскоростной двухступенчатый вакуумный насос производительностью 13,6 м3
  • Возможен апгрейд установки до модели EQ-PDC-32G-LD
  • Электропитание: 240В, 50/60Гц, 1ф
  • Вес: блок плазменной очистки – 18,1кг,  упаковочный полный – 45,36 кг
  • Габариты: 40″ x 24″ x 26″

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.