Corial D350L

  • Установка высокотемпературного плазмостимулированного осаждения для производства изделий специализированного применения (фотоника, оптоэлектроника, МЭМС)
  • Изотермальный реактор с вакуумной камерой и оригинальным распылителем
  • Загрузка через вакуумный загрузочный шлюз – одиночные пластины до 300 мм, либо групповая загрузка, например: 27 x 2”
  • Применяется для плазмостимулированного осаждения: aSi-H, SiO2, Si3N4, SiC, SiOCH, SiOF
  • Режимы осаждения: высокотемпературный – от 120°C до 325°C
  • Типовые скорости осаждения: SiO2 – более 500 нм/мин, Si3N4 – более 250 нм/мин, SiOCH – более 150 нм/мин, SiC – более 100 нм/мин
  • Газовый шкаф с контроллерами массового расхода: максимально до 8 газовых линий
  • Форвакуумный безмасляный насос, турбомолекулярный насос; малое время откачки
  • В реакторе с холодными стенками применяется плазменная очистка – реактор может работать в течение многих лет без потребности в ручной очистке

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.