Corial D250

  • Установка высоко- и низкотемпературного плазмостимулированного осаждения для мелкосерийного производства и специализированного применения (оптоэлектроника, МЭМС, силовая электроника, ИС для телекоммуникации, интегральная оптика)
  • Прямая загрузка (опционно – вакуумный загрузочный шлюз с устройством перемещения пластин и малым временем откачки)
  • Изотермальный реактор, 260-мм подложкодержатель (электрод)
  • Загрузка:  пластины от 1 x 2” до 11 x 2”, от 1 x 3” до 3 x 3”, 2 x 4”, 1 x 6”, 1 x 8”
  • Применяется для плазмостимулированного осаждения: aSi-H, SiOх, SiхNy, SiхC, SiOCH, SiOF
  • Режимы осаждения: низкотемпературный – от 20°C до 150°C, высокотемпературный – от 120°C до 325°C
  • С программным обеспечением COSMA Pulse могут проводиться процессы атомно-слоевого осаждения
  • Типовые скорости осаждения: SiO2 – 520 нм/мин, Si3N4 – 250 нм/мин, SiOCH – 150 нм/мин, SiC – 100 нм/мин
  • Газовый шкаф с контроллерами массового расхода: максимально до 8 газовых линий (варианты газов  – O2, CHF3, SF6, CF4, SiH4, N2, NH3, He, N2O)
  • Источники плазмы: RF – 300Вт, 13,56 МГц
  • Форвакуумный безмасляный насос 110 м3/ч, турбомолекулярный насос 350 л/с; время откачки < 4 мин
  • В реакторе с холодными стенками применяется плазменная очистка – реактор может работать в течение многих лет без потребности в ручной очистке
  • Электропитание: 400 В, 17,5 КВА, 3 ф, 50/60 Гц; 240 В, 9 КВА, 1 ф, 50/60 Гц
  • Габариты: 1080 х 750 х 1401 мм

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.