Corial 360RL

  • Установка реактивно-ионного травления для производства фотошаблонов, МЭМС и оптоэлектроники
  • Ручная загрузка через вакуумный загрузочный шлюз: шаблоны от 2” x 2” до 8” x 8”; возможна групповая обработка пластин 7 x 4” и 3 x 6”
  • Для травления применяются химические соединения фтора и хлора
  • Применяется для травления: хрома и кварца при изготовлении фотошаблонов; кремния и кремнийсодержащих соединений (SiO2, Si3N4, Si); полимеров (полиимида, бензоциклобутена, фоторезиста); металлов (Au, Pt, Fe, Cu, PZT, Ti, TiN, TiW, W, Ta, TaN, Ge, Nb, NbN, Mo); полупроводниковых соединений А3В5 (GaAs, GaP, GaN, AlGaN)
  • Источники плазмы: RF – от 100 Вт до 2000 Вт, 13,56 МГц
  • Скорость травления: хром – 50 нм/мин, SiO2 – 50 нм/мин, Si3N4 – 60 нм/мин, металлы – 50 нм/мин
  • Установка может быть модернизирована для обработки подложек диаметром 300 мм

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.