Corial 300S

  • Установка реактивно-ионного травления для НИОКР и производства фотошаблонов, МЭМС и прочих
  • Ручная загрузка: шаблоны от 2” x 2” до 8” x 8”; возможна групповая обработка пластин 7 x 4” и 3 x 6”
  • Для травления применяются химические соединения фтора
  • Применяется для травления: хрома и кварца при изготовлении фотошаблонов; кремния и кремнийсодержащих соединений (SiO2, Si3N4, Si); полимеров (полиимида, бензоциклобутена, фоторезиста); металлов (Au, Pt, Fe, Cu, PZT, Ti, TiN, TiW, W, Ta, TaN, Ge, Nb, NbN, Mo)
  • Скорость травления: хром – 50 нм/мин, SiO2 – 50 нм/мин, Si3N4 – 60 нм/мин, полимеры – 400 нм/мин
  • Малая площадь размещения (0,81м2)
  • Установка может быть модернизирована для обработки подложек диаметром 300 мм

к списку