Corial 300IL

• Установка травления индуктивно-связанной плазмой /  реактивно-ионного травления для НИОКР и мелкосерийного производства
• Ручная загрузка через вакуумный загрузочный шлюз с роботизированным электромагнитным приводом:  до 19 x 2”, до 7 x 4”, до 3 x 6”, до 1 — Ø300мм
• Для травления применяются химические соединения хлора
• Применяется для травления: GaN, сапфира
• Производительность установки: до 25000 пластин диаметром 2” в месяц
• 350-мм подложкодержатель (электрод), нагреваемая вакуумируемая камера
• Система нагрева/охлаждения (-50 до +150°C)
• Газовый шкаф с 5 контроллерами массового расхода: максимально до 8 газовых линий (варианты газов  – O₂, N₂, CHF₃, H₂, Cl₂, BCl₃)
• Источники плазмы: RF – 600Вт, 13,56 МГц; ICP-RIE — 2000Вт, 2 МГц
• Форвакуумный безмасляный насос 95 м³/ч, турбомолекулярный насос  1600 л/с, комплект клапанов для продувки реактора без остановки турбомолекулярного насоса
• Промышленный компьютер для управления процессом

к списку