Corial 210IL

  • Установка травления индуктивно-связанной плазмой /  реактивно-ионного травления для НИОКР и мелкосерийного производства оптоэлектроники, МЭМС, силовой электроники, ИС для телекоммуникации, интегральной оптики и прочих
  • Ручная загрузка через вакуумный загрузочный шлюз с электромагнитным приводом:  от 1 x 2” до 7 x 2”, от 1 x 3” до 3 x 3”, 1 x 4”, 1 x 6”, 1 x 8”
  • Для травления применяются химические соединения фтора и хлора
  • Применяется для травления: кремния и кремнийсодержащих соединений (SiO2, Si3N4, SiC); полимеров (полиметилметакрилата, полиимида, бензоциклобутена, фоторезиста);  полупроводниковых соединений А3В5 (GaN, AlGaN, InP) и А2В6 (ZnS, CdTe, HgCdTe); металлов (Al, Cr, Au, Ni, Fe, Pt, Cu, Ti, TiN, TiW, W, Ta, TaN, Ge, Nb, NbN, Mo); соединений повышенной твердости (Al2O3, SiC, LiTaO3, стекла, кварц, сапфир)
  • С программным обеспечением COSMA Pulse могут проводиться процессы атомно-слоевого травления и глубокого травления кремния
  • Скорость травления: полимеры – 800 нм/мин, алмаз – 500 нм/мин, GaN – 1200 нм/мин
  • 220-мм подложкодержатель (электрод), гелиевое охлаждение обратной стороны подложкодержателя обеспечивает температуру пластины < 100°C
  • Газовый шкаф с контроллерами массового расхода: максимально до 8 газовых линий (варианты газов  – O2, Ar, CHF3, CH4, SF6, C2H4,H2, Cl2, SiCl4, BCl3)
  • Источники плазмы: RF – от 100 до 1000Вт, 13,56 МГц; ICP-RIE – 2000Вт, 2 МГц
  • Форвакуумный безмасляный насос 95 м3/ч, турбомолекулярный насос
  • Температура стенки реактора > 250°C
  • Габариты: 1570 х 750 х 1434 мм

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.