Corial 200R

  • Установка реактивно-ионного травления для НИОКР и прототипирования с прямой загрузкой (опционно – через загрузочный шлюз)
  • Для травления применяются химические соединения фтора
  • Применяется для травления: кремния и кремнийсодержащих соединений (SiO2, Si3N4); полимеров; металлов (Ge, W, Ta, TaN, Ti, TiN, TiW, Nb, NbN, Mo) 
  • Подложки/пластины различных размеров: от небольших частей пластин до целых пластин Ø200мм
  • 220-мм подложкодержатель (электрод), гелиевое охлаждение обратной стороны подложкодержателя
  • Газовый шкаф с контроллерами массового расхода: SF6, CHF3, CF4, прочие – максимально до 9 газовых линий (3 – стандартно)
  • Источники плазмы: RF – 300Вт, 13,56 МГц (опционно ICP)
  • Форвакуумный безмасляный насос 95 м3/ч, турбомолекулярный насос 900 л/с
  • Электропитание: 400 В (±10%), 3 ф, 50/60 Гц; 240 В (±10%), 1 ф, 7 КВА, 50/60 Гц

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.