ATV PEO-604

  • Экономия пространства благодаря небольшому размеру
  • Экономия энергии до нулевого потребления в режиме ожидания при нормальных условиях
  • Макс 40 пластин/ за процесс
  • До 200мм
  • Легко заменяемая кварцевая оснастка
  • Температурный режим:

Нагрев до 1.000 ° C в течение 15 минут

Охлаждение до <100 ° C менее чем за 60 минут

  • Диапазон температур от 250 ° С до 1.100 ° С
  • Низкотемпературная обработка с газовым подогревом
  • Предельный вакуум <5 х 10-6 мбар
  • Скорость утечки: <5 х 10-9 мбар л / с
  • 100 шагов / программа

Процессы: CVD, PVD, LPCVD, MOCVD, Si3N4, Poly Si, Si Epitaxy, TEOS, LTO, Carbon Nanotubes, Si Nanowires, Graphene, Gas/Solid Source Diffusion, Wet/Dry Oxidation, Al Oxidation for VECSEL,

Trans LC, SiAl/SiAu/SiMo alloying;

Annealing: Inert/Atmosphere, Hydrogen, High vacuum Post Implant Annealing, Low K, Polyimide, Curing/Baking, LTCC Sintering, Thick film paste sintering

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.