Applied Materials AMAT Producer (Producer S) PECVD 200mm

  • Автоматическая многокамерная установка плазмоактивированного химического осаждения из газовой фазы с  шлюзовой загрузкой для серийного производства
  • Назначение: осаждение оксидов, нитридов, диэлектрических антиотражающих покрытий, фосфоросиликатного стекла, боросиликатного стекла и пр.
  • До 3-х сдвоенных процессных камер. Варианты: TWIN PECVD TEOS, TWIN PECVD Silane, TWIN PECVD SiN High Temp
  • В каждой процессной камере обрабатывается по 2 пластины
  • Кассетная загрузка / загрузка в SMIF-контейнерах
  • До 4-х кассетных загрузочных станций
  • Роботизированное устройство загрузки, ориентации и перемещения пластин
  • Система микроволновой плазменной очистки камер
  • Пластины: до ø200мм
  • Керамический подложкодержатель с  нагревателем, электростатическим прижимом и гелиевым охлаждением
  • Источники процессной плазмы: (0÷1250)Вт, 250 кГц; (0÷3000)Вт, 13,56 MГц; системы автоматического согласования
  • Газовая система: газовые линии с РРГ
  • Применяемые газы: SiH4, SIF4, C3H10Si, NH3, NF3, N2O, CO2, O2, Ar, He, N2 и прочие;расход процессных газов – (3÷60) л/ч
  • Применяемые химикаты: TEOS (тетраэтилортосиликат), TEPO (триэтилфосфат), TEB (триэтилборан)
  • Система управления: компьютерная; система управления температурой
  • Чиллеры, нагреватель, генератор озона
  • Высокопроизводительная вакуумная система: безмасляные форвакуумные насосы
  • Очищенный сухой сжатый воздух
  • Электроэнергия: (200÷208)В, 400А, 3ф, 50/60Гц
  • Габариты: основной модуль – (2890×1392х2068) / (3704×2149х1843) / (3467×2149х2150) мм; (без вакуумных насосов, чиллера и т.д.)
  • Вес: основной модуль – 1551 / 2417 / 2535 кг; (без вакуумных насосов, чиллера и т.д.)

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.