Applied Materials AMAT Centura (AP) Ultima X HDP-CVD

  • Автоматическая многокамерная установка химического осаждения из газовой фазы с использованием высокоплотной плазмы и с  шлюзовой загрузкой для серийного производства
  • Назначение: осаждение нелегированных и легированных слоев, включая узкощелевую изоляцию (STI), предметаллический диэлектрик (PMD), межметаллический диэлектрик (IMD), межуровневый диэлектрик (ILD), пассивирующие слои и пр.
  • До 4-х процессных камер Ultima-X
  • Загрузка в FOUP-контейнерах
  • Две или три кассетные загрузочные станции
  • Роботизированное устройство загрузки, ориентации и перемещения пластин
  • Система микроволновой плазменной очистки камер (0÷6000)Вт, 400 кГц
  • Пластины: ø300мм
  • Подложкодержатель с электростатическим прижимом и гелиевым охлаждением
  • Источники процессной плазмы: верхний/боковой электрод – (0÷11000)Вт, 2 MГц; нижний электрод – (0÷11000)Вт, 13,56 MГц; системы автоматического согласования
  • Газовая система: до 12 газовых линий с РРГ на процессную камеру
  • Кольцевой газовый распылитель с 36 сапфировыми соплами
  • Применяемые газы: SiH4, H2, NH3, NF3, Ar, O2, He, N2 и прочие;расход процессных газов – (3,0÷180) л/ч
  • Система управления: компьютерная; система управления температурой
  • Чиллеры, нагреватели
  • Высокопроизводительная вакуумная система: турбомолекулярные насосы, безмасляные форвакуумные насосы
  • Очищенный сухой сжатый воздух
  • Электроэнергия: (200÷208)В, 400А, 3ф, 50/60Гц

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.