Applied Materials AMAT Centris AdvantEdge Mesa Etch (FE-ICP)

• Автоматическая многокамерная установка травления индуктивно связанной плазмой с  шлюзовой загрузкой для серийного производства
• Назначение: травление кремния при формировании критичной узкощелевой изоляции, битовых линий, числовых шин и двойных шаблонов при производстве логических чипов и чипов памяти с топологией ≤22нм
• До 8 процессных камер: 6-ти камер травления и 2 камеры плазменной очистки от загрязнений после галогенового травления (встроены в загрузочные шлюзы)
• Производительность: до 180 пластин в час
• 4 кассетные загрузочные станции
• Роботизированное устройство загрузки, ориентации и перемещения пластин
• Пластины: ø300мм
• Источники плазмы: FE-ICP — нижний электрод — (0÷3000)Вт, 13,56 MГц; верхний электрод — (0÷3000)Вт, 13,56 MГц; системы автоматического согласования
• Газовая система: газовые линие с РРГ
• Система управления: компьютерная; система управления температурой
• Чиллеры, нагреватели
• Высокопроизводительная вакуумная система
• Очищенный сухой сжатый воздух
• Электроэнергия: 208В, 3ф, 50/60Гц

к списку