Applied Materials AMAT Centris AdvantEdge Mesa Etch (FE-ICP)

  • Автоматическая многокамерная установка травления индуктивно связанной плазмой с  шлюзовой загрузкой для серийного производства
  • Назначение: травление кремния при формировании критичной узкощелевой изоляции, битовых линий, числовых шин и двойных шаблонов при производстве логических чипов и чипов памяти с топологией ≤22нм
  • До 8 процессных камер: 6-ти камер травления и 2 камеры плазменной очистки от загрязнений после галогенового травления (встроены в загрузочные шлюзы)
  • Производительность: до 180 пластин в час
  • 4 кассетные загрузочные станции
  • Роботизированное устройство загрузки, ориентации и перемещения пластин
  • Пластины: ø300мм
  • Источники плазмы: FE-ICP – нижний электрод – (0÷3000)Вт, 13,56 MГц; верхний электрод – (0÷3000)Вт, 13,56 MГц; системы автоматического согласования
  • Газовая система: газовые линие с РРГ
  • Система управления: компьютерная; система управления температурой
  • Чиллеры, нагреватели
  • Высокопроизводительная вакуумная система
  • Очищенный сухой сжатый воздух
  • Электроэнергия: 208В, 3ф, 50/60Гц

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.