Apex SLR

  • Установка травления индуктивно-связанной плазмой для НИОКР, прототипирования и мелкосерийного производства, для преобразования поверхности
  • Подложки размером до 8”
  • Библиотека стандартных технологических процессов травления: диэлектриков (SiNx, SiO2, a-Si, SiOxNy, SiC, Ta2O5), полимеров (в т.ч. полиимид, бензоциклобутен, фоторезист), подготовка поверхности ( изменеие кислородом свойств поверхности структурированного сапфира), текстурирование поверхности твердотельных излучателей и солнечных элементов
  • 254-мм подложкодержатель (электрод), 320-мм ICP источник, шлюзовая загрузка, цифровые регуляторы массового расхода,  до 20 газовых каналов (4 – стандартно)
  • Температура термостабилизируемого подложкодержателя 5÷60°C
  • Источник RIE 300Вт 13,56 МГц (опционно 600Вт 13,56 МГц), источник ICP 1200Вт 2 МГц (опционно 2000Вт 2 МГц), небольшая занимаемая площадь (<1,0 м2), комплексное управление оконечными устройствами, протокол внештатных ситуаций, различные уровни доступа пользователей, управление процессом в реальном времени с визуальным отображением данных
  • Высокопроизводительная (700 л/с, опционно 1200 л/с) система обеспечения вакуума уровня 1,0х10-6 торр
  • Электропитание: 380÷400В, 50Гц, 3ф, 16А; 200÷208В, 60Гц, 3ф, 25А
  • Габариты: 125,0(206,2)х138,7х68,5см

к списку