AnnealSys SprayCVD-050

  • Лабораторная установка для ХОГФ распылением (ХОГФ распылением, БТ отжиг, имплантационный отжиг, отжиг п/п соединений, кристаллизация, спекание)
  • Диапазон температур — до 1200°C
  • Размер подложки — до 2″ х 2″
  • До 3 процессных и 1 продувочная газовые линии
  • Вакуумирование до 10-3 Торр
  • Осаждение прозрачных проводящих оксидов

к списку