AnnealSys MC050

  • Установка для НИОКР для МО ХОГФ и ХОГФ распылением (гетероэпитаксия оксидов на монокристаллические подложки – МО ХОГФ, возможность ХОГФ распылением, а также отжига в камере осаждения)
  • Диапазон температур – до 1200°C
  • Размер подложки –  Ø2″
  • До 6 процессных и 1 продувочная газовые линии
  • До 4 испарителей жидких исходных реагентов
  • Вакуумирование до 10-3 Торр

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.