AnnealSys LC100

  • Печь ХОГФ НД для НИОКР (ненапряженный обогащенный кремнием нитрид, ХОГФ НД, отжиг, окисление)
  • Диапазон температур — от 500 до 1100°C
  • Размер подложки — Ø4″
  • До 12 процессных и 1 продувочная газовые линии
  • Вакуумирование до 10-6 Торр
  • Обработка до 50 пластин за процесс
  • Управление температурой по 3 зонам

к списку