FHR.Micro.150-PECVD

• Лабораторная установка плазмостимулированного химического осаждения из газовой фазы
• Назначение: осаждение слоев a-Si, SiN_x, SiO_x, SiO_xN_y, алмазоподобных углеродных покрытий и прочих
• Подложкодержатель с фиксаторами для подложек диаметром до 100 мм
• Ручная загрузка-выгрузка подложек
• Ручное управление
• Процессная камера из алюминия
• Температура процесса: до 400°C
• RF-источник напыления 13,56 МГц
• RF-электрод диаметром 150 мм
• Процессные газы: азот (N₂), закись азота (N₂O), моносилан (SiH₄), метан (CH₄) , аммиак (NH₃) и прочие

к списку