ULVAC CS-200 (PVD)

• Автоматическая установка физического осаждения из газовой фазы (напыления) для НИОКР и мелкосерийного производства
• Назначение: осаждение пьезоэлектрических слоев, например: платина-цирконий-титан; пленок оксидов индия и олова (ITO), в том числе легированных, для солнечных элементов; металлов (Ni, Au, Pt, Ru); углерода и других
• Подложки: до ø300мм
• Процессные камеры: 1
• Вакуумируемый шлюз загрузки-разгрузки с загрузочным лотком ø320мм
• Транспортировочная система: пневматический робот-манипулятор
• Источники распыления: 4” магнетронные катоды – до 4-х комплектов для различных материалов (вариант — 12″ катод); возможность совместного распыления постоянным током, пульсирующим постоянным током, мощность источника – 2 кВт
• Напыление может производиться как на верхнюю, так и на нижнюю часть подложки
• ВЧ-источник мощностью 1 кВт для предварительной очистки в процессной камере и напыления
• Предельное давление в процессной камере: 1.0×10^-4Па или меньше
• Система нагрева подложки
• Возможность напыления с вращением подложки
• Газовая система: газовые линии с РРГ
• Применяемые газы: Ar, N₂, O₂ с давлением 0,05Мпа
• Очищенный сжатый воздух: (0,6÷0,7)МПа
• Охлаждающая вода: давление — 0,2Мпа, температура – (20÷28)°C, расход – 27л/мин
• Система управления: компьютерная, с сенсорным монитором
• Вакуумная система: турбомолекулярный и роторный насосы
• Электроэнергия: 200В, 3ф, 50/60Гц, 30 кВА
• Опционно: 3” катод, система нагрева подложки до 600 ̊C, криогенный насос, сухой насос, кассета на 5 слотов, система управления GPCS-2700 (ПК ＋ ПЛК), система напыления под углом, прочие

к списку