SENTECH SILAYO (PEALD)

• Автоматическая установка плазмоактивированного атомно-слоевого осаждения для НИОКР и мелкосерийного производства
• Назначение: нанесение конформных и однородных слоев Al₂O₃, SiO₂, TiO₂, HfO₂, TaO₂, ZrO, Nb₂O₅ и пр. для изготовления оптических фильтров и создания антиотражающих покрытий на больших объемных объектах и на партиях небольших подложек
• Вакуумируемая загрузочная камера.
• Подложки: до ø330мм (в т.ч. ø2”, ø3”, ø4”, ø6”), толщина подложки до 100мм
• Рабочая камера: из алюминиевого сплава
• Температура стенок рабочей камеры: до 150°C   
• Источник ICP с плоской тройной спиральной антенной (PTSA) для обеспечения однородной плазмы
• ВЧ-смещение напряжения на подложке
• Температура подложки: до 400°C   
• Газовая система: 3 газовые линии с РРГ
• Применяемые газы: O₂, Ar, N₂ и прочие
• Подача прекурсоров: 4 линии
• Применяемые прекурсоры: ТМА, TDMAT, BDEAS,  Н2О и прочие
• Вакуумная система: безмасляный форвакуумный насос
• Система управления: компьютерная
• Электроэнергия: 400В, 3ф, 50Гц
• Очищенный сжатый воздух
• Вытяжная вентиляция
• Опционно: турбомолекулярный насос; высокоскоростной эллипсометр; дополнительные газовые линии;  дополнительные линии подачи прекурсоров и пр.

к списку