MTI VTC-2RF (PVD)

• Компактная установка высокочастотного плазменного магнетронного напыления с 2“ оголовком распылителя для НИОКР
• Назначение: магнетронное напыление неметаллических покрытий, преимущественно — оксидов
• Подложки: пластины диаметром до 2″
• Один вращающийся со скоростью от 1 до 10 об/мин 50-мм нагреваемый керамический держатель с оболочкой из нержавеющей стали
• Нагреватель держателя до температуры 400°С с точностью поддержания температуры ±1°С
• Источник плазмы: RF-генератор 13,5 МГц, 300 Вт с функцией автоматической калибровки подключен к 2“ оголовку распылителя.
• 2“ (опционно — 1″) оголовок магнетронного распылителя с системой водяного охлаждения (рециркуляция воды – 16 л/мин, чилер управляется цифровым контроллером) и с управляемым вручную затвором для защиты мишени
• Процессная камера из высокочистого кварца размерами: ø 160 мм х 250 мм, уплотняющий фланец из алюминия с высокотемпературным силиконовым уплотнительным кольцом (опционно — процессная камера из нержавеющей стали)
• Сетчатый экран из нержавеющей стали для дополнительной защиты от ВЧ-излучения
• Установка укомплектована водяным чилером
• Установка укомплектована специальным фланцем для присоединения вакуумного насоса и двухступенчатым вакуумным механическим насосом, обеспечивающим вакуум менее 1 х 10^-2 торр; опционно может быть поставлен компактный турбовакуумный насос, обеспечивающий вакуум менее 1 х 10^-5 торр
• Чистота применяемого аргона – лучше 5N
• Опционно: прецизионный измеритель толщины пленки
• Ручная загрузка-выгрузка подложек
• Мишени: в состав установки входит 1 мишень из SiO₂ ø2″ х ¹/₄«. Опционно: мишени из высокочистых Al₂O₃, ZnO, CrTiO₃ и прочие
• Электропитание: 220В, 50/60Гц, 1ф, 800Вт (включая насос)
• Габариты: 650 x 650 x 1630 мм
• Вес: 70 кг

к списку