TEL TELFORMULA™

TELFORMULA ™ является самой передовой изотермической миниатюрной платформой в полупроводниковой промышленности. TELFORMULA ™ включает в себя ряд инновационных технологий, специально разработанных для удовлетворения потребности отрасли в 300-мм высокоскоростном серийном производстве. TELFORMULA ™ подходит также для R&D разработок. Короткое время цикла обработки достигается за счет конвергенции нескольких новых основных технологий, таких как безметалловый быстродействующий нагреватель, быстрая продувка, высокоскоростной блок позиционирования пластин. Концепция полностью кварцевых реакторов обеспечивает идеальную среду для обработки пластин и позволяет достигать предельного уровня чистоты, который поддерживается за счет очистки сухим газом, что сокращает время простоя и связанных с этим расходов. TELFORMULA ™ является идеальной платформой для широкого спектра полупроводниковых процессов, включая LPCVD Si (Poly, a-Si), Si3N4, SiO2, ALD High-k, окисление ATM / LP, оксинитридирование и т. д.

к списку