SVCS SVсFUR-RD LPCVD

  • Горизонтальные LPCVD печи для НИОКР и ОП
  • LPCVD процессы: низкотемпературное оксидирование (LTO), высокотемпературное оксидирование (HTO), ТЭОС, нитрид кремния, поликремний, легированный поликремний, оксинитрид
  • Рабочая зона до 300мм
  • Диапазон температур — до 1200°C
  • Количество зон: 3 или 5
  • До 4 горизонтальных кварцевых реакторов для различных процессов
  • Развитая система водяного охлаждения позволяет снизить взаимное температурное влияние между реакторами
  • Бесконтактная, полностью автоматическая система загрузки лодочек в реактор (консольная или с мягкой посадкой)
  • Размер подложки —  Ø 150мм, 200мм, 300мм

т

к списку