SVCS SVсFUR-FP LPCVD

Высокопроизводительные горизонтальные LPCVD печи
LPCVD процессы: низкотемпературное оксидирование (LTO), высокотемпературное оксидирование (HTO), ТЭОС, нитрид кремния, поликремний, легированный поликремний, оксинитрид
Рабочая зона до 1067мм
Диапазон температур — до 1200°C
Количество зон: 3 или 5
До 4 горизонтальных кварцевых реакторов для различных процессов
Развитая система водяного охлаждения позволяет снизить взаимное температурное влияние между реакторами
Бесконтактная, полностью автоматическая система загрузки лодочек в реактор (консольная или с мягкой посадкой)
Размер подложки — Ø 150мм, 200мм, 300мм

Обратная связь