ULVAC NLD-570 (ICP/NLD)

• Автоматическая однокамерная установка плазмохимического травления высокоплотной плазмой низкого давления /индуктивно-связанной плазмой с  ручной загрузкой для НИОКР
• Назначение: производство оптических приборов (световодов, усилителей, оптических переключателей, микролинз, оптических МЭМС), фотоэлектроники, систем полного микроанализа, микроструйной техники; глубокое травление SiO₂; высокоскоростное травление кварца (>1мкм/мин), боросиликатного стекла (>0,8мкм/мин); травление LiNbO₃, TiO₂
• Ручная загрузка
• Процессная камера ø300мм
• Пластины:  ø6”, оперативное управление температурой пластины
• Температура подложки: (-20÷40)°C при использовании чиллера
• Источник плазмы: NLD (Neutral Loop Discharge – выделение петли с нейтральным магнитным полем) — 3000Вт, 13,56МГц. Источника смещения – 1000Вт, 2МГц или 13,56МГц
• Электроды: верхний электрод – система внешних магнитных катушек с внутренней антенной, подключенной к ВЧ-источнику; нижний электрод-подложкодержатель с электростатическим захватом и гелиевым охлаждением
• Применяемые газы: Cl₂, CF₄, C₃F₈, C₄F₈, CHF₃, O₂, Ar, Hе, N₂ и прочие
• Вакуумная система: коррозионностойкий турбомолекулярный насос и коррозионностойкий безмасляный форвакуумный насос
• Система управления: компьютерная, с сенсорной панелью
• Габариты: (700x1720x1800) мм
• Опционно: кассетная загрузка; система измерения и оповещение об окончании процесса  

к списку