ULVAC NE-550EXa (ICP/RIE)

• Автоматическая однокамерная установка плазмохимического травления высокоплотной плазмой низкого давления /индуктивно-связанной плазмой с  ручной загрузкой для НИОКР
• Назначение: травление полупроводниковых соединений А₃В₅ (селективное травление GaAs, AlGaAs, InGaAs, InGaP, InP; неселективное травление — GaAs, AlGaAs, AlGaInP, InAlAs, InP, GaN, AlGaN, InGaN, AlN); высокоскоростное или щадящее травление диэлектрических слоев (SiO₂, SiN, Low-K материалов; сквозное травление GaAs, InP, SiC); травление органических соединений (полиимида, бензоциклобутен); травление металлов и керамики (W, WSi, TiW, Mo, PZT, STO, BST, SBT, Ir, IrO₂, Au, Pt, Ti, TiN, Ta); а также травление ITO (оксид индия-олова), сапфира, кварца, стекла, Si, SiC, C, алмазоподобного углеродного покрытия, Al, Cr, Mo
• Ручная загрузка
• Процессная камера с оперативным управлением температурой стенок камеры
• Пластины:  (50÷200) мм, оперативное управление температурой пластины
• Температура подложки: (-15÷180)°C
• Источник плазмы: ISM (индуктивный супер магнетрон) — 1000Вт, 13,56МГц. Источника смещения – 300Вт, 13,56МГц
• Электроды: верхний электрод — STAR Electrode (Antenna), нижний электрод-подложкодержатель с электростатическим или механическим захватом и гелиевым охлаждением
• Газовая система: до 8 газовых линий, в том числе с РРГ, продувочный азот
• Применяемые газы: Cl₂, BCl₃, SF₆, CF₄, C₃F₈, CHF₃, O₂, Ar, Hе, N₂ и прочие
• Вакуумная система: коррозионностойкий турбомолекулярный насос 1360 л/с и коррозионностойкий безмасляный форвакуумный насос 1333 л/мин
• Система управления: компьютерная, с сенсорной панелью
• Габариты: (700x1720x1800) мм
• Опционно: кассетная загрузка; система измерения и оповещение об окончании процесса по лазерному интерферометру / оптическому эмиссионному спектрометру  

к списку