TEL UNITY Me (RIE)

• Автоматическая многокамерная  установка реактивно-ионного травления с  шлюзовой загрузкой для серийного производства
• Назначение: травление SiO₂, Si_xN_y; травление канавок Si, SiC; травление твердых фотошаблонов SiC на SiC пластинах; материалов с низкой диэлектрической проницаемостью; травление поликремниевых затворов; Cu и прочее
• Процессные камеры: до 4
• Загрузка в открытых кассетах или в SMIF-контейнерах
• Две кассетные загрузочные станции
• Роботизированное сдвоенное устройство загрузки и перемещения пластин
• Три варианта установки (Ox / Si / SiC) с различными конфигурациями процессных камер (DRM, SCCM, UD) для обеспечения различных видов обработки
• Пластины: ø8” (SCCM); ø4”, ø6”, ø8” (DRM, UD)
• Материал подложек: Si, SiC, стекло, сапфир и пр.
• Оптическая система ориентации пластин
• Керамический электростатический подложкодержатель с гелиевым охлаждением
• Источники плазмы: нижний электрод — (0÷3000)Вт, 2 MГц; верхний электрод — (0÷2700)Вт, 60 MГц; системы автоматического согласования
• Газовая система: до 12 газовых линий с РРГ на каждую процессную камеру
• Применяемые газы: C₃F₈, C₅F₈, C₄F₈, C₄F₆, CF₄, CHF₃, CH₃F, CH₂F₂, SF₆, CO, H₂, Xe, Ar, O₂, He, N₂ и прочие;расход процессных газов — (3÷60) л/ч
• Система управления: компьютерная с сенсорным экраном; система управления температурой; система определения окончания процесса
• Температурный контроллер, чиллеры
• Высокопроизводительная вакуумная система: турбомолекулярные насосы, безмасляные форвакуумные насосы
• Оборотная охлаждающая вода
• Очищенный сжатый воздух: (6÷8) бар
• Азот: 30 л/ч
• Электроэнергия: 208В, 500А, 3ф, 50/60Гц

к списку