SENTECH SI 500-300(ICP)

  • Автоматическая установка травления индуктивно-связанной плазмой с  шлюзовой загрузкой для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: травление полупроводниковых соединений А3В5  (GaAs, InP, GaN, InSb), диэлектриков, кварца, стекла, кремния (Si), соединений кремния (SiC, SiGe), металлов и пр.
  • Вакуумируемая алюминиевая загрузочная камера. Загрузка по одной пластине или частей пластин на носителе
  • Пластины:  ø12”/300мм, толщина подложки до 10мм, оперативное управление температурой пластины
  • Рабочая камера: алюминиевая ø600мм
  • Электроды: ИСП –электрод (верхний) — Planar Triple Spiral Antenna 400, нижний – алюминиевый электрод-подложкодержатель ø370мм: гелиевое охлаждение; механический прижим пластины; расстояние между электродами – (55÷110)мм
  • Температура подложки: (20÷280)°C; опционно с чиллером —  (-30÷280)°C  
  • Источник ИСП: 1200Вт, 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления. Источника смещения – 600Вт, 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления
  • Газовая система: 4 газовые линии с РРГ, продувочный азот, гелий
  • Применяемые газы: Cl2, HBr, SiCl4, BCl3, CHF3, CF4, SF6, O2, Ar, Hе, N2 и прочие
  • Вакуумная система: для рабочей камеры – водоохлаждаемый коррозионностойкий турбомолекулярный насос 2000 л/с и коррозионностойкий форвакуумный насос; для загрузочной камеры — безмасляный форвакуумный насос 12 м3/ч
  • Система управления: компьютерная, с Windows XP/Wista
  • Электроэнергия: 400В, 3ф, 32А, 50/60Гц
  • Очищенный сжатый воздух: 6 кг/см2
  • Азот: (4÷5) кг/см2, 25 л/процесс, процессного качества
  • Охлаждающая вода: 4 кг/см2, (8÷12) л/мин, (15÷20)°С
  • Гелий для охлаждения: 2 кг/см2, чистота 5N
  • Вытяжная вентиляция: подключение к газовому шкафу – ø80мм, к насосам – DN 40 KF
  • Габариты: реакторный блок – (810x2450x1550/1900 при подъеме ICP источника) мм, стойка управления – (650x800x1200) мм, насосный модуль – (700x630x1100) мм, шкаф для основных подключений – (400x300x500) мм 
  • Вес: реакторный блок – 270 кг, стойка управления – 120 кг, насосный модуль – 150 кг, шкаф для основных подключений – 25 кг
  • Опционно: чиллер для системы рециркуляции; измерения и оповещение об окончании процесса по интерферометру; дополнительные (до 8) газовые линии; цифровые РРГ на пьезокристаллах; нагреваемые стенки реакторной камеры; датчик температуры обратной стороны пластины с оптоволоконным присоединением

к списку